电子级超纯水应用于太阳能多晶硅行业
发布日期：2014-01-13 点击次数：248次
多晶硅清洗用超纯水处理设备关键技术EDI技术与反渗透技术的有机结合，达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。多晶硅片，半导体器件等清洗过程中所需的纯水需要符合国家《电子级水质标准》18.2兆欧以上，目前最有效的制水工艺就是预处理加反渗透加EDI技术工艺。超纯水处理设备已被多晶硅清洗行业广泛应用。
典型工艺：
